PNP7000M系列 高速堆叠芯片固晶设备

可实现全局±8um的高精度堆叠固晶,最高可堆叠32层芯片,按1s贴合工艺时间,最高达2200PCS/H。
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高精&高速
·±8μm@3σ XY贴装精度
·±0.1°@3σ 角度贴装精度
·UPH:2000(1s)

全自动上料
·支持华夫盒盘自动更换
·支持晶圆盘自动更换

双点胶头
·支持双点胶头

直接/并行模式
·支持直接/并行模式快速切换

MIN25μm
·机构可同时兼容PVRMS和PVMS

正装&倒装
·一键切换正倒&倒装芯片生产工艺

Specifications技术规格
性能项目 7000M 7000Mpro PNP7000New
产品定位 Flash、LPDDR、主控 Flash、LPDDR、主控、DDR Flash、LPDDR、主控、DDR
XY贴装精度 ±5μm@3σ(标定片) ±8μm@3σ(实贴DAF产品)
角度贴装精度 ±0.07°@3σ(标定片) ±0.1°@3σ(实贴DAF产品)
邦头旋转角度 0~360° ±170° ±170°
效率UPH 2000(1s)PCS/H Face-up:2000(1s)PCS/H
Face-down:1600(1s)PCS/H
Face-up:2000(1s)PCS/H
Face-down:1600(1s)PCS/H
邦头加热 / MAX250℃±3℃ MAX250℃±3℃
支持芯片尺寸 0.5~25mm(配置A:视野30*35mm)
0.5~15mm(配置B:视野16*21mm)
Face-up:0.5~25mm(配置A)
Face-up:0.5~15mm(配置B)
Face-down:0.5~15mm
Face-up:0.5~25mm(配置A)
Face-up:0.5~15mm(配置B)
Face-down:0.5~15mm
支持基板尺寸 300*100mm
邦头力控范围 0.5N-50N 1N-70N 1N-70N
画胶 可选配 可选配 可选配
倒装 / 标配 标配
芯片华夫盒上料 可选配 可选配 可选配
支持基板类型 ceramic、lead-frame、substrates
支持芯片类型 Wafer ring、Waffle pack
支持顶出方式 单顶针、多顶针、三步顶、四步顶
固前检测 配置A:Die裂、崩角/崩边≥W1μm*L80μm,Particle≥D30μm;
配置B:Die裂、崩角/崩边≥W1μm*L50μm,Particle≥D25μm;
固后检测 Die裂、崩角/崩边≥W1μm*L80μm Die裂、崩角/崩边≥W1μm*L80μm Die裂、崩角/崩边≥W1μm*L30μm
设备尺寸 2350mm*1400mm*1640mm 2450mm*1400mm*1640mm 2450mm*1400mm*1640mm
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